ASML EUV Gücünü 1000 Watt’a Taşıdı, Üretim %50 Artacak
ASML, EUV litografi ışık kaynağının gücünü 1000 watt seviyesine taşıyarak on yılın sonuna doğru her makineden yaklaşık %50 daha fazla çip üretiminin önünü açtı. Şirket, bugün saat başına ortalama 220 wafer seviyesinde olan verimliliğin 2030 civarında yaklaşık 330 wafer/saate çıkabileceğini söylüyor. Bu artış, pozlama sürelerini kısaltıp çip başına maliyeti düşürmeyi hedefliyor.
ASML’nin EUV ışık kaynağı baş teknolojisti Michael Purvis, 1000 watt seviyesinin “kısa süreli bir numara” olmadığını, müşteri ortamına denk gereksinimler altında sürdürülebilir şekilde elde edildiğini vurguluyor. Yine de bu kaynağın ticari sistemlere entegre edilmesi yıllar alacak; plan, bu on yılın ilerleyen dönemlerinde devreye almaya işaret ediyor.
Nasıl mümkün oldu?
- Kalay damlacık hızının yaklaşık iki katına çıkarılarak saniyede ~100 bin damlacığa ulaşılması.
- Tek ön atış yerine iki kısa ön atış ve ardından ana CO₂ lazer darbesinden oluşan üç darbeli yeni aydınlatma dizisi.
- Daha yüksek güçlü lazer darbeleri ve damlacık “preshaping” ile ışık toplama veriminin yükseltilmesi.
Purvis, 1000 watt seviyesinin ötesine de bir yol gördüklerini, 1500 watt’a makul bir patika ve 2000 watt için de “temel bir engel” bulunmadığını söylüyor.
Ekonomik tarafta amaç net: EUV’yi müşteriler için daha düşük maliyetle sürdürülebilir kılmak. EUV makinelerinden sorumlu yönetici Teun van Gogh, güç artışının saatlik wafer verimini yükselterek maliyeti aşağı çekeceğini ve büyük dökümhanelerin yatırımını daha geniş bir üretim hacmine yayacağını belirtiyor. Hedef, 2030’a doğru makine başına ~330 wafer/saat.
ASML, bu 1000 watt’lık kaynağı önce mevcut EUV platformlarına uyarlayıp on yılın ikinci yarısında ticarileştirmeyi planlıyor. Bu arada ABD’de xLight ve Substrate gibi girişimler alternatif ışık kaynağı yaklaşımlarını geliştiriyor. ASML’nin atağı, hem verimliliği yükseltip maliyeti azaltmayı hem de rekabete karşı teknoloji üstünlüğünü pekiştirmeyi hedefliyor.
Kaynak: www.techspot.com
Kaynak: Techolay